少層石（shí）墨的製備方法有哪些（xiē）？

少（shǎo）層石墨的製備方法有哪（nǎ）些？
來源：東莞市捷誠石墨製品有限公司（sī） 發布時間：2019-12-09 點擊次（cì）數（shù）：198


采用撕裂帶法和氧化還原法（fǎ）製備（bèi）了低（dī）層石（shí）墨，用拉曼光譜停止了試樣的分段（duàn）鑽削。利用高定向熱解石墨(HOPG)良好的層狀結構，用（yòng）多次撕裂帶法（fǎ）在300 nm SiO 2/Si和Si襯底上（shàng）發現石墨損失較少。與薄（báo）、厚樣品的拉曼光譜比（bǐ）較後，可以分辨出低層石墨。從光學顯微圖（tú）像來看，300 nm SiO 2/Si襯底上低層（céng）石墨的光學比照度較好，拉（lā）曼光譜測（cè）試表明，在300 nm SiO 2/Si襯底上（shàng）已失去單（dān）層石（shí）墨，即石墨烯。以高（gāo）純石墨粉（fěn）為原料，用改進的悍馬法製備了氧化基油墨(GO)的拉曼光譜。結果（guǒ）表明，氧化後石墨的2D峰消失，D峰和G峰變寬，強度比變大，表明樣品的結構發生了（le）變化，缺（quē）陷有所增加。結果表（biǎo）明（míng），石墨的2D峰消失，D峰和G峰變寬，強度比變大，表明石墨的結構發生了變化，缺（quē）陷有所增加。

石墨烯是目前（qián）社會上最薄的二維碳數據之一.石墨烯儲存（cún）具有較高的載流（liú）子遷（qiān）移率，其（qí）電子存儲處於亞微米級管道傳輸特性，室溫沉積電子傳輸速率非常快。該部門的優良性質使其在納米電子零件領（lǐng）域有著廣泛的應用。

XRD測（cè）試結果表明石墨峰消失，Go衍射峰出現，表（biǎo）明石墨被氧化。認為（wéi）低壓水壺的熱（rè）回收和水合肼（jǐng）的化學修複（fù）阻止了GO的回收（shōu）。通過拉曼光譜的合成，得出如下結論：(1)石墨的（de）2D峰是從新出現的GO轉變而來的。(2)通過對ID/G值的比較，得出低壓（yā）釜熱回收法在（zài）一定程度上停止了對石墨氧化過程（chéng）中缺陷的修複，回收（shōu）效果優於（yú）水（shuǐ）合（hé）肼。XRD測試表明（míng），石墨的特征衍射峰增強，GO的衍射峰減弱，GO的衍射峰恢複。修複產物（wù）在水中和NMP中的分散表明，修複後（hòu）的GO中存（cún）在少（shǎo）量親水性基團（tuán）的缺失。Go及其修複（fù）產物的PL光譜（pǔ）表明，GO粉（fěn）末為綠色（sè），還原產物為藍色，這也說明修複後GO的（de）結構發生了變（biàn）化。拉曼光譜是鑒（jiàn）別石墨烯和無效手（shǒu）腕的一種無害（hài）、快速、準確的方法，GO和（hé）恢複產（chǎn）物的（de）結構表（biǎo）征範圍也是其主要意義。